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什么是濺射靶材?
2023-11-28

 


大規(guī)模集成電路制造過程中反復(fù)使用的濺射工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù),是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一。利用離子源產(chǎn)生的離子在高真空中加速聚集,形成高速離子束流,轟擊固體表面,離子與固體表面原子交換動能,使固體表面的原子離開固體,沉積在基礎(chǔ)表面。以下是濺射靶材工作原理、類型、產(chǎn)業(yè)鏈、產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀、趨勢、競爭格局等信息的詳細(xì)介紹。

一般來說,濺射目標(biāo)材料主要由目標(biāo)坯料、背板等部件組成,其中目標(biāo)坯料是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料,屬于飛濺目標(biāo)材料的核心部分,在飛濺涂層過程中,目標(biāo)坯料被離子沖擊后,其表面原子飛濺并沉積在基板上,形成電子薄膜;由于高純度金屬強度較低,飛濺目標(biāo)材料需要安裝在特殊的平臺上完成飛濺過程,平臺內(nèi)部是高壓、高真空環(huán)境,因此,超高純金屬飛濺目標(biāo)坯料需要通過不同的焊接工藝與背板連接,背板主要起固定飛濺目標(biāo)材料的作用,需要具有良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。

濺射靶材的種類較多,即使相同材質(zhì)的濺射靶材也有不同的規(guī)格。濺射靶材按不同的分類方法可分為不同的類別,主要分類如下:

按形狀分類:長靶、方靶、圓靶;

按化學(xué)成分分類:金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)、合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合金等)、陶瓷靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等);

按應(yīng)用領(lǐng)域分類:半導(dǎo)體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。



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在濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域,半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的金屬材料純度和內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn),需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù),經(jīng)過長期實踐才能生產(chǎn)出符合工藝要求的產(chǎn)品。因此,半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的要求高,價格與半導(dǎo)體芯片相比,飛機(jī)顯示器和太陽能電池對濺射靶材的純度和技術(shù)要求略低,但隨著靶材尺寸的增加,對濺射靶材的焊接結(jié)合率和平整度提出了更高的要求。此外,濺射靶材需要安裝在濺射機(jī)臺內(nèi)完成濺射過程,濺射機(jī)臺專用性強,對濺射靶材的形狀、尺寸和精度也設(shè)定了諸多限制。

 

 


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